Diamantslipeskive brukt i solcelleanlegg

Silisium tilhører hardt og sprøtt materiale, mohs hardhet er 6,5, kan lage polykrystallinsk silisium, monokrystallinsk silisium i henhold til bruken.

Monokrystallinsk silisium (MONokrystallinsk silisium) er et relativt aktivt ikke-metallisk grunnstoff. Med en i utgangspunktet komplett gitterstruktur er monokrystallinsk silisium (MONokrystallinsk silisium) et godt halvledermateriale med en renhet på 99,9999 prosent. Den brukes hovedsakelig til produksjon av halvlederenheter og solceller.

Monokrystallinsk silisium produseres vanligvis ved først å produsere polykrystallinsk silisium eller amorft silisium og deretter vokse stavlignende monokrystallinsk silisium fra smelten ved direkte trekk- eller suspensjonssonefusjonsmetoden.

Polykrystallinsk silisium er en form for elementært silisium. Når smeltet elementært silisium størkner under underkjøling, er silisiumatomene ordnet i mange krystallkjerner i form av diamantgitter. For eksempel vokser disse krystallene til korn med forskjellige orienteringer på krystalloverflaten, og disse kornene kombineres for å krystallisere til polykrystallinsk silisium.

Polysilisium er det direkte råmaterialet til monokrystallinsk silisium, og det er det elektroniske informasjonsgrunnlaget for kunstig intelligens, automatisk kontroll, informasjonsbehandling, fotoelektrisk konvertering og andre halvlederenheter.

Det kalles "hjørnesteinen i mikroelektronikkbygningen".

Maskineringsprosess

Behandlingsprosessen av monokrystallinsk silisium inkluderer hovedsakelig: trunkering, sfærifisering, skjæring, sliping, avfasing, sliping, kjemisk korrosjon, polering og andre trinn.

I motsetning til dette har polysilisium ingen trunkerings- og sfærifiseringstrinn og må bare kuttes firkantet og skjæres i skiver etter at ingotprepareringen er fullført.

I hele forberedelsesprosessen av monokrystallinsk silisium og polykrystallinsk silisium fra stang til brikke, kreves det diamantverktøy med forskjellig BRUK for å delta i behandlingen, og prosesseringspresisjonen er relativt høy.

Monokrystallinsk silisiumstangslipeskive

En krystall rulleslipeskive, generell størrelse er 1A1 300*25 (35,40) *127*7, i form av enkeltbrikke og kombinasjon.

Det er en komposittslipeskive med multi-granularitet (D 120/140, 200/230, W40), som kan oppnå høy maskineringseffektivitet og overflatekvalitet samtidig.

Støtte for maskinverktøy inkluderer Wuxi on-machine WSK003, Wuxi open source WX-7321/2 og så videre

Overflate avfasende hjul

Avfasing av monokrystall silisiumslipeoverflate og polykrystallinsk silisiumslipeoverflate krever også en stor mengde diamantslipeskive. Behandlingsprosedyrene er delt inn i grovsliping og finsliping, med diamantpartikkelstørrelsen 120/140, W40, W28, W20 osv. Hoveddimensjonene er 6A2 220*65*130*5*5, 6A 2 200*60*80*5*5, 11A2 100*28(40)*31,75(20)*5*5, osv.

Innenlandsrelatert maskinutstyr mer, en del av overflateavfasing alt-i-ett-maskinen kan være enkelt polykrystallinsk bue eller vinkel, overflatepolering.